行业知识
新闻资讯
- 诚挚邀请您出席《2024年广东省物理学会学术年会暨中山大学物理学科百年论坛》
- 诚挚邀请您出席《2023粤港澳大湾区智能微纳光电技术学术会议》
- 诚挚邀请您出席《第三届全国光子技术论坛》
- 祝贺第二十届全国量子光学学术会议圆满结束
联系我们
联系人： 周先生
手机： 13288666664
电话： 020-38880135 020-38880857
邮箱： sales01#gzyuli.com
地址： 广东省广州市天河区棠东官育路22号B239房
行业知识
溅射镀膜工艺-溅射机理
作者： 发布时间：2023-09-05 10:01:33点击：272
溅射现象很早就为人们所认识，通过大量实验研究，对这一重要物理现象得出以下几点结论:
1) 溅射率随入射离子能量的增加而增大;而在离子能量增加到一定程度时,由于离子注入效应，溅射率将随之减小;
2) 溅射率的大小与入射粒子的质量有关;
3) 当入射离子的能量低于某一临界值 (闽值) 时，不会发生溅射
4) 溅射原子的能量比蒸发原子的大许多倍;
5) 入射离子的能量低时，溅射原子角分布就不完全符合余弦分布规律。角分布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来的原子趋向于集中在晶体密度最大的方向。
6) 因为电子的质量小，所以，即使用具有极高能量的电子轰击靶材时，也不会产生溅射现象。
相关标签：
- 上一个：溅射过程-淀积过程中的污染
- 下一个：溅射镀膜工艺-热蒸发理论
新闻资讯
-
2024-06-20 10:23:16
干涉仪-实验方法
-
2024-06-19 11:03:00
干涉仪-组装调试的要点
-
2024-06-18 10:54:10
干涉原理
-
2024-06-13 10:01:54
干涉仪的特点
-
2024-06-12 10:26:21
干涉仪指南
-
2024-04-16 10:13:18
超长工作距离变倍显微镜
客服1 
客服2